26421989200

Scopus is the largest abstract and citation database of research literature and quality web sources. Quick, easy and comprehensive, Scopus provides superior support of the literature research process. Scopus is updated everyday.

1. Effect of Sputtering Power on the Structure of DC Magnetron Sputtered Vanadium Nitride Thin Films    
   By: Witit-Anun, Nirun; Buranawong, Adisorn
   JOURNAL OF METALS MATERIALS AND MINERALS   Volume: 27   Issue: 1   Pages: 47-52   Published: 2017 
2. The effect of titanium current on structure and hardness of aluminium titanium nitride deposited by reactive unbalanced magnetron co-sputtering   
   By: Buranawong, A.; Witit-anun, N.; Chaiyakun, S.; et al.
   THIN SOLID FILMS   Volume: ‏ 519   Issue: ‏ 15   Special Issue: ‏ SI   Pages: ‏ 4963-4968   Published: ‏ MAY 31 2011

ปีงบประมาณ 2562

1. ผลของอุณหภูมิอบอ่อนทีมีต่อสมบัติความต้านทานการเกิดออกซิเดชันของฟิล์มบางไทเทเนียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วย วิธี รีแอคทีฟ ดีซี แมกนีตรอนสปัตเตอริง

ปีงบประมาณ 2561

1. การพัฒนาชั้นเคลือบแข็งยิ่งยวดของสารประกอบไนไตรด์ของธาตุสามชนิดที่มีโครเมียมเป็นธาตุหลักเพื่อการประยุกต์กับเครื่องมือช่างอุตสาหกรรม

ปีงบประมาณ 2560

1. ผลของปริมาณโครเมียมต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ ที่เตรียมด้วยวิธีรีแอคตีฟแมกนีตรอนโคสปัตเตอริง

ปีงบประมาณ 2558

1. การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางวานาเดียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยเทคนิครีแอกทีฟแมกนีตรอนสปัตเตอริง
2. ผลของความหนาที่มีต่อสมบัติต้านทานการกัดกร่อนของฟิล์มบาง โครเมียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธี รีแอคตีฟ สปัตเตอริง

ปีงบประมาณ 2557

1. ผลของกระแสโครเมียมคาโทดที่มีต่อสมบัติของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยเทคนิครีแอกทีฟแมกนีตรอนโคสปัตเตอริง

ปีงบประมาณ 2555

1. การเตรียมและศึกษาลักษณะเฉพาะของฟิล์มบางไนไตรด์ของธาตุสามชนิดที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟสปัตเตอริง

ปีที่ตีพิมพ์ 2563

1. โครงสร้างและพฤติกรรมการเกิดออกซิเดชันของฟิ ล์มบางไทเทเนียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยเทคนิครีแอคทีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริง
2. The Effect of Annealing Temperature on Structure of TiCrN Thin Film Deposited by DC Magnetron Sputtering Method
3. Effect of Sputtering Current on the Structure of TiCrN Thin Films Prepared from Mosaic Target by Reactive DC Magnetron Sputtering

ปีที่ตีพิมพ์ 2562

1. Structure and Oxidation Behavior CrN Thin Films Deposited Using DC Reactive Magnetron Sputtering
2. ผลของกระแสสปัตเตอริงต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริง
3. Effect of Substrate-Target Distance on the Structure of TiCrN Films Deposited from Mosaic Target by Reactive DC Magnetron Sputtering

ปีที่ตีพิมพ์ 2561

1. ผลของเวลาการเคลือบที่มีต่อโครงสร้างและสมบัติของฟิล์มบางโครเมียมไนโตรต์ที่ถูกสปัตเดตอร์ด้วยวิธีแอคตีฟดีซีแมกนีตรอน

ปีที่ตีพิมพ์ 2560

1. ผลของกระแสสปัตเตอริงต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยรีแอคตีฟดีซีอันบาลานซ์แมกนีตรอนสปัตเตอริง
2. Nanostructure and Microstructure Evolution of D.C. Reactive Magnetron Sputtered CrN Thin Films

ปีที่ตีพิมพ์ 2557

1. Preparation and characterization of CrVN thin films deposited by reactive dc magmetron co-sputtering
2. Structure and Microstructure of Binary Nitride TiN Thin Films Deposited by DC Reactive Sputtering

ปีที่ตีพิมพ์ 2556

1. Effect of N2 flow rates on properties of nanostructured TiAlN thin films prepared by reactive magnetron co-sputtering
2. Preparation and characterization of nanostructured TiN thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering

ปีที่ตีพิมพ์ 2555

1. States of Particles in DC Magnetron Sputtering Deposition of Titanium Metallic
2. Structure and Composition of TiVN Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Co-sputtering
3. Variation of color in Zirconium nitride thin films prepared at high Ar flow rates with reactive dc magnetron sputtering
4. Characterization of Nanostructured TiZrN Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Co-sputtering

ปีที่ตีพิมพ์ 2563

1. Effect of Total Pressure on the Structure of TiCrN Thin Films Prepared from Mosaic Target by Reactive DC Magnetron Sputtering
2. Effect of Deposition Time on the Structure of TiCrN Nanocomposite Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering from Mosaic Target
3. Preparation and Characterization of TiN thin film Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering

ปีที่ตีพิมพ์ 2562

1. Growth and Characterization of TiAlN Thin Films Prepared from Segment Target by Reactive Magnetron Sputtering
2. การศึกษาผลของกระแสสปัตเตอริงต่อโครงสร้างของฟิล์มบางวาเนเดียมไนไตรด์ที่เตรียมด้วยวิธีรีแอคตีฟแมกนีตรอนสปัตเตอริง

ปีที่ตีพิมพ์ 2555

1. THE CRYSTAL STRUCTURE, SURFACE MORPHOLOGY AND MICROSTRUCTURE OF TiZrN THIN FILM DEPOSITED BY REACTIVE DC MAGNETRON CO-SPUTTERING METHOD
2. EFFECT OF O2 GAS FLOW RATES ON PHASE FORMATION OF TiO2 THIN FILM DEPOSITED BY REACTIVE DC MAGNETRON SPUTTERING ON UNHEATED SUBSTRATE
3. STRUCTUREOF TiVN COATINGS PREPARED BY REACTIVE DC MAGNETRON CO-SPUTTERING
4. STRUCTURAL AND OPTICAL PROPERTIES OF Sn-DOPED ZnO THIN FILMS PREPARED BY SOL-GEL METHOD
5. STRUCTURAL AND MICROSTRUCTURAL PROPERTIES OF LOWTEMPERATUREAlTi3NTHIN FILM FABRICATED BY REACTIVE DC MAGNETRON CO-SPUTTERING METHOD